关于高纯锗靶材制备方法及应用

锗靶材是指由纯度较高的锗材料制成，具有半金属灰白色外观。密度为5.35g/cm3，熔点为937°C。常用于制造晶体管和集成电路。它通常在真空下蒸发以在光学存储介质和光学涂层的生产中形成层。该材料的其他用途是作为合金剂和催化剂。

锗靶材特征
锗靶材形状：平面靶 异型定制
锗靶材纯度：5N
锗靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供锗棒、锗片、锗颗粒、锗块、锗粉等


锗靶材的制作方法
1、将金属锗融化后注入引料区，融化金属锗，融化后以1～3℃/min的速率降温冷凝得到锗块；
2、将锗块加入坩埚主体中，并盖上坩埚盖；
3、将放置好锗块的坩埚主体竖直放入加热装置内，并立在支撑台上，保证坩埚主体的融料区在加热装置的加热区域内，引料区位于加热区域外；
4、加热装置对融料区以5～10℃/min的速率进行加热，加热至980～1050℃后进行保温2～5h，保温完成后以8～15r/min的速率旋转支撑台，排出靶材内部的氧气，提高靶材的致密度；
5、当支撑台旋转3-6min后，优选5min，下降支撑台将坩埚主体移出冷却，冷却为自然冷却，冷却至室温；
6、取出坩埚主体内的锗靶材胚料，并去除锗靶材胚料两端的部分，具体地，锗靶材胚料的下端去除位于引料区的部分，锗靶材胚料的上端去除3～5毫米，即可得到锗靶材，然后根据需要切割成所需要的目标靶材即可。

通过该方法制备的锗靶材，可在一定范围内根据需要制作任意尺寸的靶材，且方便大批量生产。同时，由于坩埚主体设置在支撑台上，制作过程中支撑台驱动坩埚主体旋转，从而去除锗靶材内部的氧气，制作的靶材的致密度大于99％，大大提高了锗靶材的致密度。上图是锗靶材的材质分析报告。

锗靶材应用
光学涂层：锗靶材可以用于制备具有特定光学性质的涂层，如抗反射涂层、反射镜涂层等。这些涂层在光学器件、激光器、光纤通信等领域中具有重要应用。
太阳能电池：锗靶材在太阳能电池制备中也有应用。锗材料具有较高的光吸收系数和较好的光电转换效率，可以作为太阳能电池的吸收层材料。


金属锗其他用途
半导体材料：金属锗是一种重要的半导体材料，可用于制造半导体器件，如二极管、晶体管等。它具有高电导率和良好的热导率，因此在电子和光电子器件中得到广泛应用。
红外光学器件：金属锗在制备红外光学器件中具有重要作用。它具有较高的折射率和透过率，并且在红外光谱范围内具有良好的透明性，因此可用于制造红外窗口、透镜、反射镜等。
太阳能电池：金属锗在太阳能电池中也有应用。它可以作为太阳能电池的基底材料，帮助提高太阳能电池的效率和稳定性。

锗靶材系列产品
除锗靶材外，我们还可以提供氧化锗、氮化锗、硫化锗、硒化锗、碲化锗、锗碲合金、锗锑碲合金、锗硒锑合金、铬锗合金等溅射靶材。

感谢您阅读高纯锆靶材制备工艺及应用。希望大家能对锆靶材有更好的了解。 如果您想了解更多关于金属科研材料的信息，请收藏我们的网站鑫康新材料/。

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