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钛（Ti）靶材

钛（Ti）靶材

产品类别

高纯金属靶材

产品名称

钛（Ti）靶材

元素符号

Ti

纯度

2N7, 4N, 4N5, 5N

形状

平面靶旋转靶异型定制

钛（Ti）靶材概述

钛靶材，钛元素符号 Ti ，原子序数 22 ，密度 4.454g/Cm3 ，物理性质：熔点 1668℃，沸点 3262℃，比热容 0.52（J /(Kg·K) ，蒸发热 421（KJ/Mol），熔化热 15.45（KJ/Mol），导电率 0.0234（106/Cm）。由于高纯钛的成本相当昂贵，应用领域极其有限，主要用作半导体材料和超高真空装置中的吸气材料。高纯钛具有吸气性，特别是吸氢、CH4、Co2气体，因此它能在高真空和超高真空系统中获得广泛应用。用高纯钛溅射制作LSI、VLSI、ULSI的线路网时，可使这些集成件变得格外轻、薄、尺寸小而且线路密集。高纯钛靶材也可以用作阻挡层金属材料。下图是钛溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径<50um。

钛靶材.jpg 高纯钛靶材.jpg

只要您提供详细的靶材信息，如纯度，尺寸，公差要求，及其他技术要求，我们将尽快为您提供报价，并提供快的交期

我们生产高纯度的溅射靶材，它重要的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒小化的薄膜。以下表格是4N5高纯钛溅射靶的成分分析证明书。采用的分析方法：1. 使用GDMS或ICP-OES对金属元素进行分析；2. 使用LECO进行气体元素分析。

钛靶材参数.jpg

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