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铟溅射靶材是高纯度的铟金属构成的银色光泽的灰色靶。它的熔点156.61℃，沸点2060℃，密度7.3 g / cm3。 质地非常软，能用指甲刻痕，可塑性强，有延展性，可压成片，易熔金属。其显著特征之一是能够粘附在玻璃和其他类似表面上。铟化合物在真空下蒸发，在电子产品和光伏电池生产中形成薄膜。纯铟在半导体中用作薄膜层。

铟溅射靶材制作工艺  

备料 - 熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装

铟溅射靶材制备工艺

检查背板并清洁背板的外表面；将背板固定于可控温平板加热炉的平板上；将挡板固定于背板的上表面的四周缘以形成由背板和挡板围成的上端开口的容置腔；设定可控温平板加热炉的温度为预热温度以预热背板；将铟锭样品加入可控温熔料浇注炉中，设定可控温熔料浇注炉的加热温度以将铟锭样品熔化为铟液；将可控温熔料浇注炉内的铟液浇注在容置腔中；将容置腔中的铟液上面漂浮的杂质清理干净；使可控温平板加热炉停止对容置腔中的铟液加热；在室温下冷却容置腔中的铟液以使铟液固化在背板上而形成下层为背板、上层为固体铟的铟靶材；待铟液固化后将挡板松开并移除，将铟靶材取出；将铟靶材的未焊合有固体铟的背板的四周缘的部分切除；对成型的铟靶材进行超声探伤扫描以检查铟靶材有无缺陷以及背板与固体铟的焊合有无缺陷。

铟溅射靶材应用

铟溅射靶用于涂覆高速电动机的轴承，因为它可以使润滑油均匀分布。铟靶材还用于薄膜沉积，装饰，半导体，显示器，LED和光伏器件，功能性涂层，以及其他光学信息存储空间行业，汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃涂层行业，光通信等。

铟还用于制造其他电气组件，例如整流器，热敏电阻和光电导体。铟可用于制造反射率与银镜一样高但不会褪色的镜。铟还用于制造低熔点合金。24％铟和76％镓的合金在室温下为液态。

铟靶材的其他合金形式

铜铟、铟锡、铟镁、铜铟镓合金等。