锗溅射靶材由高纯锗金属组成。是一种硬而脆的材料，具有半金属，灰白色的外观。它的密度为5.35 g / cc，熔点为937°C，在1,167°C下的蒸气压为10 -4 Torr。在光学存储介质和光学涂层的生产中，它经常在真空下蒸发以形成层。这种材料的其他用途是用作合金化剂和催化剂。
备料 - 区域熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装
锗溅射靶材的应用
应用领域覆盖红外光学、太阳能电池、光纤通讯、半导体特气、PET催化剂等产业。
锗铜、金锗、锗锑碲合金靶材等
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